Samsung được cho là trì hoãn sản xuất hàng loạt bằng High-NA EUV để kiểm soát chi phí

Samsung Electronics được cho là đang thận trọng trong việc đưa công nghệ High-NA EUV vào sản xuất hàng loạt, dù đã lắp đặt hai hệ thống của ASML. Động thái này được cho là xuất phát từ áp lực chi phí và tình hình kinh doanh của mảng Foundry, thay vì những hạn chế về mặt công nghệ.

Samsung thận trọng với High-NA EUV dù đã đầu tư hơn 1.000 tỷ won

Intel hiện là công ty đầu tiên triển khai High-NA EUV của ASML trong sản xuất hàng loạt, với công nghệ này được sử dụng cho một số lớp trong quá trình sản xuất bộ xử lý 18A Panther Lake. Trong khi đó, Samsung Electronics vẫn chưa chính thức đưa các hệ thống High-NA EUV vào sản xuất hàng loạt, dù đã hoàn tất việc lắp đặt hai hệ thống.

Theo Chosun Ilbo, các chuyên gia trong ngành cho rằng nguyên nhân chủ yếu nằm ở vấn đề tài chính. Samsung được cho là muốn hạn chế các khoản đầu tư vốn mới nhằm tránh khiến khoản lỗ của mảng Foundry tiếp tục gia tăng trong giai đoạn chờ đợi sự phục hồi.

Cụ thể, Samsung đã lắp đặt hệ thống High-NA EUV đầu tiên tại cơ sở Hwaseong vào năm ngoái và bổ sung hệ thống thứ hai trong nửa đầu năm nay. Tổng mức đầu tư cho hai hệ thống được ước tính hơn 1.000 tỷ won.

Như vậy, xét về việc sở hữu thiết bị High-NA EUV, Samsung đang không quá chậm so với Intel. Tuy nhiên, công ty vẫn chưa chính thức xác nhận các hệ thống này đã được đưa vào sản xuất hàng loạt, cho thấy việc triển khai thương mại trên quy mô lớn có thể vẫn đang được tạm hoãn.

Mảng Foundry của Samsung đứng trước bài toán lợi nhuận

Mảng Foundry của Samsung được cho là đã thua lỗ kể từ năm 2022. Tuy nhiên, một số chuyên gia thị trường kỳ vọng hoạt động kinh doanh này có thể bắt đầu có lãi trở lại sớm nhất vào quý IV năm nay.

Trong bối cảnh đó, việc đưa các hệ thống High-NA EUV vào sản xuất hàng loạt sẽ làm tăng đáng kể chi phí khấu hao và các khoản chi phí vận hành cố định khác.

Theo Chosun Ilbo, khi triển vọng phục hồi đang dần xuất hiện, Samsung có xu hướng hạn chế các khoản đầu tư vốn bổ sung và chờ đến khi khả năng sinh lời được củng cố rõ ràng hơn, đặc biệt thông qua các đơn hàng ổn định từ những khách hàng lớn.

Đây được xem là lý do Samsung đang theo đuổi chiến lược chi tiêu vốn tương đối thận trọng, dù công nghệ High-NA EUV có thể mang lại lợi thế đáng kể cho các tiến trình bán dẫn tiên tiến.

Yield tiến trình 2nm của Samsung được cho là đã cải thiện

Một tín hiệu tích cực khác là tỷ lệ yield của tiến trình 2nm của Samsung được cho là đã cải thiện lên khoảng 55%, tiến gần mức khoảng 60% thường được xem là ngưỡng cần thiết để tiến tới sản xuất hàng loạt ổn định.

Một quan chức trong ngành thiết bị bán dẫn được Chosun Ilbo dẫn lời cho biết yield của Samsung đã đạt mức mà các thiết bị High-NA EUV mới có thể được triển khai.

Tuy nhiên, Samsung dường như vẫn chưa muốn đẩy nhanh quá trình này. Công ty được cho là sẽ tiếp tục duy trì chính sách đầu tư thận trọng cho đến khi khả năng sinh lời của mảng Foundry được đảm bảo tốt hơn nhờ lượng đơn hàng từ các khách hàng lớn.

High-NA EUV mang lại lợi thế nhưng chi phí là rào cản lớn

High-NA EUV là thế hệ tiếp theo của công nghệ quang khắc EUV, cho phép tạo ra các mẫu mạch dày đặc hơn chỉ trong một lần phơi sáng. Nhờ đó, công nghệ này có thể giảm mức độ phức tạp trong sản xuất bằng cách hạn chế hoặc loại bỏ nhu cầu sử dụng các kỹ thuật multi-patterning.

Theo Chosun Ilbo, High-NA EUV được kỳ vọng sẽ đóng vai trò ngày càng quan trọng đối với các tiến trình 1.4nm và tiên tiến hơn.

Tuy nhiên, chi phí vẫn là một trong những rào cản lớn nhất đối với việc áp dụng công nghệ này.

Theo Reuters, một hệ thống High-NA EUV có giá khoảng 400 triệu USD, gần gấp đôi so với một hệ thống EUV thông thường. Không chỉ đắt đỏ, việc tích hợp công nghệ mới vào dây chuyền sản xuất cũng đặt ra những thách thức kỹ thuật đáng kể.

Trong khi đó, TSMC dường như cũng chưa vội triển khai High-NA EUV. Tom's Hardware trước đây đưa tin các công nghệ tiến trình A13 và A12 của TSMC, dự kiến hướng tới năm 2029, có thể chưa cần đến công nghệ quang khắc High-NA EUV.

Trong một cuộc họp công bố kết quả kinh doanh, Chủ tịch kiêm CEO TSMC C.C. Wei đánh giá High-NA EUV là một công nghệ đầy hứa hẹn, nhưng cho rằng mức độ trưởng thành và chi phí vẫn là những yếu tố quan trọng cần cân nhắc trước khi áp dụng rộng rãi.

Samsung đứng trước lựa chọn chiến lược

Việc Samsung trì hoãn triển khai High-NA EUV trên quy mô lớn cho thấy cuộc đua bán dẫn tiên tiến không chỉ phụ thuộc vào khả năng tiếp cận công nghệ mới nhất. Chi phí đầu tư, tỷ lệ yield, khả năng thu hút khách hàng và triển vọng lợi nhuận cũng đóng vai trò quan trọng không kém.

Trong ngắn hạn, Samsung có thể tiếp tục duy trì các hệ thống High-NA EUV đã lắp đặt để phục vụ nghiên cứu và chuẩn bị cho các tiến trình tương lai, đồng thời chờ mảng Foundry cải thiện lợi nhuận trước khi mở rộng sản xuất hàng loạt.

Nếu yield 2nm tiếp tục tăng và Samsung được thêm các đơn hàng lớn, công ty có thể có thêm cơ sở để đẩy nhanh việc đưa High-NA EUV vào sản xuất thương mại. Ngược lại, chi phí đầu tư quá lớn có thể khiến Samsung tiếp tục trì hoãn, đặc biệt trong bối cảnh Intel đã bắt đầu triển khai High-NA EUV vào sản xuất và TSMC vẫn đang cân nhắc kỹ lưỡng về hiệu quả kinh tế của công nghệ này.